टाइटेनियम स्टील समग्र प्लेटों के हॉट रोलिंग उत्पादन के लिए विशिष्ट विधि क्या है?

1। टाइटेनियम स्टील क्लैड प्लेट के उत्पादन के लिए तरीकों में से एक गर्म रोलिंग है, जिसमें एक लोहे-आधारित सामग्री और एक टाइटेनियम क्लैडिंग सामग्री के गठन की आवश्यकता होती है, और कोटिंग में कम से कम एक क्लैडिंग सतह साइड प्लेट असेंबली होती है, और आधार सामग्री की कोटिंग सामग्री और 20 से 30 ग्राम/एम 2 मो या वी की आवश्यकता होती है। यह पिघलने बिंदु के तापमान पर गर्म किया जाता है, टाइटेनियम ऑक्साइड को कम करने के लिए 50 डिग्री सेल्सियस और 1050 डिग्री सेल्सियस के बीच ऑक्सीकरण किया जाता है, और फिर गर्म लुढ़का।

2। जो ऑक्साइड जोड़ा जाना है, वह MOO3 है।

3। हीटिंग तापमान 845 डिग्री सेल्सियस और 1050 डिग्री सेल्सियस के बीच है।

4। ऑक्साइड V2O5 को जोड़ा जाना चाहिए।

5। हीटिंग तापमान 740 डिग्री सेल्सियस और 1050 डिग्री सेल्सियस के बीच है।

यह तकनीक वास्तव में हॉट रोलिंग के माध्यम से टाइटेनियम-स्टील समग्र प्लेटों के उत्पादन के लिए एक प्रक्रिया है, जिसमें उत्कृष्ट क्लैडिंग गुण हैं और उत्पादन लागत में भी बहुत किफायती है। स्टेनलेस स्टील कम्पोजिट प्लेटों की उत्पादन प्रक्रिया में, हॉट रोलिंग प्रोसेसिंग अधिक लोकप्रिय और बड़े पैमाने पर उत्पादन के लिए उपयुक्त है। हालांकि, यह टाइटेनियम-स्टील समग्र प्लेटों के उत्पादन के लिए उपयुक्त नहीं है। ऐसा इसलिए है क्योंकि टाइटेनियम प्रतिक्रिया के लिए प्रवण है; उच्च तापमान पर, यह संभावित रूप से हवा या अन्य धातुओं के साथ रासायनिक प्रतिक्रियाओं से गुजर सकता है, इसलिए टाइटेनियम के गुणों को गर्म रोलिंग के दौरान क्लैड की आवश्यकता होती है। अच्छा क्लैडिंग प्राप्त करना मुश्किल है। इसलिए, गर्म रोलिंग के माध्यम से टाइटेनियम-स्टील समग्र प्लेटों का उत्पादन करते समय, टाइटेनियम और लोहे के बीच की सीमा पर यौगिकों के गठन को रोकने के लिए टाइटेनियम और बेस सामग्री के बीच अन्य सामग्रियों को जोड़ा जाना चाहिए।

एक और सरल उत्पादन विधि

स्टील प्लेट रोलिंग और एयर कूलिंग:स्टील प्लेटों को गर्म रोलिंग मिल पर 6 मिमी मोटी स्टील प्लेट और एयर कूल्ड 4 पर लुढ़काया जाता है।

सतह की सफाई और रोलिंग:स्टील और टाइटेनियम प्लेटों की सतहों को हवा के शीतलन के बाद साफ किया जाता है, और फिर 2 - 5 पास 4 के लिए 850 डिग्री पर रोल किया जाता है।

रासायनिक संरचना आवश्यकताएं:स्टील प्लेट की रासायनिक संरचना C: 0.16%, MN: 0.61%, SI: 0.2%, S: 0.23%, P: 0.019%, Cr: 0.3%, NI: 0.3%, Cu: 0.3%, AS: 0.08%, और संतुलन है; टाइटेनियम प्लेट की रासायनिक संरचना Fe: 0.08%, O: 0.08%, C: 0.05%, N: 0.0112%, SI: 0.01%, H: 0.01%, और संतुलन TI4 है।